韩国工业产权局及有关机构

• KIPO 韩国工业产权局 ：该局是韩国贸易、工业及能源部的一个下设机构，主要负责以下工业产权项目的保护：专利、实用新型、外观设计、商标、半导体集成电路布图设计、商业秘密和反不正当竞争。此外，韩国工业产权局还负责促进发明创造、打击假冒伪劣活动及工业产权信息的传播。
• KIPA 韩国发明促进协会 ：该协会负责鼓励和促进发明活动及对私营机构的培训活动。
• KIPRIC 韩国工业产权信息中心 ：该机构为公众提供有关工业产权各种信息的服务。
• KPAA 韩国专利代理人协会
• 文化与旅游部 ：该部专设版权处，负责版权保护及相关事宜。
• 韩国计算机程序保护基金会 ：该机构负责计算机程序的注册。

韩国知识产权保护种类

• 专利 ：依据专利法，通过专利授权保护发明。发明必须满足三性要求，即：实用性、新颖性和创造性。发明必须是利用自然规律所作出的高水平的技术创造。
• 实用新型 ：依据实用新型法，实用新型是指一个产品的形状、结构或它们的组合。对实用新型的要求与专利一样，也必须满足三性要求。实用新型是利用自然规律所作出的技术创造。
• 外观设计 ：是指产品的形状、图案、颜色或者它们的结合所作出的能产生视觉印象的设计，所说的产品通常被认为是一个有形的、可移动的、独立的东西。
• 商标及服务标志 ：根据商标法，商标是指生产、制造或经营者为了销售自己的商品，在市场上与其它商品相区别而使用的有颜色或无颜色的标记、文字、图形及三维形状或它们的结合。
• 版权 ：在文学、科学或艺术领域内所创造出的作品均受版权保护。
• 商业秘密 ： 1991 年通过对《反不正当法》的修订，提出了对商业秘密进行保护。
• 计算机程序 ： 1987 年通过了《计算机保护条例》，对计算机软件提供了特殊的保护。
• 半导体集成电路布图设计 ： 1992 年政府通过了《半导体集成电路布图设计条例》，该条例于 1993 年 9 月生效。
• 数据库 ：在 1993 年和 1995 年，两次对版权法修改的过程中，提出了对数据库及版权作品的某些邻接权的保护。
• 新植物品种 ： 1995 年通过了对新植物品种的保护法，该法于 1997 年底生效。

保护知识产权的国际公约

韩国已经加入的保护知识产权的国际公约有：

• 成立世界知识产权组织公约（ 1967 ）
• 保护工业产权巴黎公约（ 1980 ）
• 专利合作条约（ 1984 ）
• 国际承认用于专利程序的微生物保存布达佩斯条约（ 1988 ）
• 与贸易有关的知识产权协议（ 1995 ）
• 保护文学艺术作品伯尔尼公约（ 1996 ）
• 世界版权公约（ 1987 ）

韩国政府 1998 年计划加入的条约有：

• 国际专利分类斯特拉斯堡协定
• 商标注册用商品和服务的国际分类尼斯协定
• 商标法条约

韩国专利、实用新型、商标、外观设计及其他知识产权保护体系

专利及实用新型

一个专利申请在韩国知识产权局递交后，经过一系列步骤，授予专利权。韩国专利制度的特点为：先申请制、出版公开文献、提出实审请求、授权后异议制。

1997 年 7 月 1 日起，韩国工业产权局将原来的先异议后授权制改为先授权后异议制。申请人交付费用后，工业产权局即在专利注册公报上公布，自公布之日起 3 个月内为异议期。 异议期后，审查员作出决定，如果申请人对审查员的最终驳回决定不服，可在收到通知后 30 天内上诉到工业产权法庭，对工业产权法庭决定的诉讼由专利法院审理， 工业产权法庭和专利法院均于 1998 年 3 月建立，如果对专利法院的决定不服，最终上诉到最高法院。

实用新型与专利的审批制度一样。

商标

韩国商标法的特点为：先申请制、实质审查、先异议后授权制。

根据韩国《商标条例》，商标和服务标志在韩国工业产权局注册后可以得到保护。商标的使用并不是递交商标注册申请的前提。依据《商标条例》，非注册商标是不受保护的。但是一个驰名商标的持有者可以得到这样的保护，即不允许其他人再对同样或类似的标志进行商标注册。对于一个没注册的驰名商标的侵权行为依据《反不正当竞争条例》解决。

1998 年 3 月 1 日新修订的《商标条例》规定，如果一个注册商标的申请目的不正当，如：其目的是毁坏某些国内或国外驰名商标的声誉，那么该申请将被驳回。

外观设计

目前，韩国外观设计保护体系正处于从实质审查制（ SES ）向非实质审查制（ NSES ）过渡阶段。

为了满足申请人要求加快外观设计注册流程的请求，韩国国民议会修改了《外观设计条例》。新《条例》规定，从 1998 年 3 月 1 日起，对一些生命周期较短的产品引入了非实质审查制。

在非实质审查制中，一个申请可以在申请日起 2 ～ 3 个月内得到注册登记，且还可以享受诸如：多项申请等新的申请程序待遇，并且为了使申请人尽早获得专利权，采取先授权后异议制。

虽然在非实质审查制中，申请不经过实质审查，但是对外观设计申请注册的要求及专利权的效力与在实质审查制中是一样的，对不符合要求的申请，将在授权后异议程序或诉讼程序中被无效。

目前非实审制还处于一种试行阶段，申请范围小（如纺织品，衣服等）。如果试行成功，韩国工业产权局将逐渐扩大申请范围。

版权

根据《版权条例》，受版权保护的作品为 “ 在文学、科学或艺本领域内的创造性产品 ” 。从某种意义上讲，它实际上包括了所有人类的智力和文化活动。

根据《版权条例》，不属于《版权条例》保护的范围有：

• 宪法，法律或其他法令；
• 政府或任何地方公共实体出版的公共布告或行政指南；
• 法庭的判决、决定、决议及法令，行政诉讼程序或其他类似程序中作出的决议或裁定；
• 政府或任何地方公共实体出版的上述三项所涉及的材料汇编或译文；
• 反映事实的新闻报道；
• 法庭、国民议会或地方议会的公开会议上的讲话。

根据《版权条例》在以下三种情况下，外国作者的作品可享受韩国版权保护：

• 遵循任何一个韩国已经加入的条例，外国作品享受韩国版权保护；
• 外国作品的首次出版在韩国，或在韩国的出版日为自该作品在国外首次出版日起 30 天内；
• 居住在韩国的外国自然人或在韩国设有主要办事处的外国法人的作品。

当作品产生后，版权自动生成，不需任何正式注册手续。一般来说，在侵权诉讼过程中，已经注册的版权更具有法律效力，它可以作为一种证据，证明自该版权生成之日起版权存在。版权的有关事宜在文化与旅游部办理

计算机程序

在韩国，计算机程序受《计算机保护条例（ CPPA ）》的保护。该《条例》中所说的 “ 计算机程序权 ” 是指 “ 程序版权 ” ，它与版权类似，也是在程序产生后自动生成的，不需要诸如程序注册的正式手续。

然而，程序的作者应在韩国计算机程序保护基金会办理程序注册。因为程序一旦注册，意味着程序在注册的产生日生成，可作为计算机程序版权存在的初步证据。

程序版权的保护期为自出版年之后 50 年。如果程序没有出版， 50 年的保护期将从程序产生日当年年底计算

半导体集成电路布图设计

随着全球半导体经营活动的增多，韩国 1992 年颁布一种特殊的法律，称为《半导体集成电路布图设计条例》， 1994 年修订。

布图设计必须注册才能享有布图设计权。布图设计注册申请在韩国工业产权局递交。该局对申请进行形审，而不进行创造性的实质审查。布图设计的保护期为注册之日起 10 年，最长不能超过自第一次商业使用之日起 10 年或产生之日起 15 年。

商业秘密

在韩国，商业秘密由《反不正当竞争条例》（ UCPA ）保护。根据《反不正当竞争条例》，商业秘密定义为： “ 在制造、市场、或其他商业活动中有用的技术或商业信息，它不为公众所知，具有独立的商业价值，需要通过巨大的努力加以保密。 ”

对于盗用商业秘密的行为，根据《反不正当竞争条例》有民事赔偿和刑事制裁两种处理方式。

自动化和信息电子申请与管理

随着申请量的大幅度增长，纸件文献的存储日益困难。为此，韩国工业产权局已着手开发用于处理不断增加的申请文件及文献的高效的自动化管理系统。该系统预计将于 1998 年底完成并正式投入使用。

该自动化系统允许申请人以电子介质如：联机或软盘形式递交申请。这样，今后韩国工业产权局内部的所有申请文档将通过内部网络联机管理。

虽然，目前自动化系统尚未完全建成，但是申请人可以使用＂韩国电子申请准备系统 " （ KEAPS ）撰写申请，然后将申请文件拷贝到软盘上，再递交到韩国工业产权局。利用这种软件的申请人其申请费可享受 25% 的优惠。

有关这方面的信息可以从韩国工业产权局网址上获取。（ http://www.kipo.go.kr ）

工业产权信息服务

韩国工业产权信息中心（ KIPRIC ）是提供工业产权信息及服务的机构。该中心将收集到的韩国、欧洲专利局、日本和美国的工业产权信息建成一个数据库，以联机、 CD-ROM 及磁带的形式向公司、发明人、实验室等单位提供服务。

自 1996 年 7 月起，韩国工业产权信息中心还以联机商业服务方式提供国内专利、实用新型、外观设计、商标、诉讼及统计资料等信息，目前，该中心正试图增加日本和美国的工业产权信息服务。

1998 年 5 月起韩国工业产权局开始出版 CD-ROM 形式的公报。

韩国商标注册说明

• 韩国的商标法采用先申请原则和登记原则，为 " 与其他商品相区别的标志 " 受到保护，必须登记商标。商标登记与该商标是否在韩国国内使用无关。
• 韩国对先使用者在商标法上不提供任何保护，但如果该商标时驰名或著名商标时，对其进行保护。
• 审查员对所有商标进行识别力的存在与否和授权的实质条件进行审查，审查结果没有发现驳回理由的，进行申请公告。该申请公告之日起 30 天内，任何人都可以对该商标登记提出异议。
• 商标权，是在经过申请公告获得审查员的登记之后发生，保护期限为 10 年，以每 10 年进行一次更新登记的方式获得半永久性的保护。